奧林巴斯顯微鏡冷凍斷裂裝置技術解析

　　奧林巴斯顯微鏡的斷裂在特殊的冷凍斷裂儀中進行。冷凍斷裂儀有多種商品出售，其復雜程度也有很大差別，但原理都是相同的，它們都是一個真空噴鍍儀和一個冷凍斷裂裝置組成的。

　　奧林巴斯顯微鏡的冷凍斷裂裝置。其主要部件有兩個：刀座和樣品座，均由導熱良好的銅制成。刀座上安置一刀片，它可沿樣品座上的導軌順斜面下滑。樣品座上可安放樣品杯。當拉動塑料支撐塊時，刀座下滑，將樣品切斷。在刀座上方與前方各有一孔，供噴鉑與噴碳用。樣品座上可裝上蝕到加溫器，使樣品升溫。刀座前還有一隔熱板，以阻擋噴鍍時的熱輻射。為保證整個裝置有良好的導熱、滑動與切斷性能，每次使用前均應認真擦拭，除去上面的油污、水份和氧化層。必要時可用拋光膏，丙酮清洗表面。

　　奧林巴斯顯微鏡使用時，將刀座和樣品座置入液氮中冷凍待液氯停止沸騰后，取出，并在室溫下迅速將經(jīng)過冷凍的樣品連同樣品杯一‘起裝到樣品座亡，再將刀座放在樣品座導軌上方，下面墊以塑料文撐塊，插攢舶入隔熱板，然后將整個裝置再次故人液氮冷卻。待液氯沸騰停止，立即提出，放到真空明鍍儀的噴鍍臺上，技上支撐塊的拉繩，接通溫度控制器，蓋放真空罩開始抽真空。

　　奧林巴斯顯微鏡真空噴銨儀內的真空度達到樣品溫度時，通過快門把手迅速拉動真空罩內的支撐塊，刀座即從樣品座的斜面上滑下，并將樣品切斷，在樣品杯內留下一個帶裂面的樣品。

　　有時奧林巴斯顯微鏡需要研究腹表面的結構，這就要使樣品慢慢升溫，令冰升華，把膜內外表面暴露出來，這一過程稱為蝕到。蝕刻速度與溫度和真空度有關。具體作法是，在樣品斷裂后。在的真空度下，用蝕刻加溫器使樣品溫度慢慢升至，并在該條件下維持3一10分鐘。

　　奧林巴斯顯微鏡的斷裂或蝕刻后的樣品均需噴鍍。噴鍍的目的是在暴露的樣品表面造成一個連續(xù)的，具有足夠反差并富有立體感的薄膜，印制備樣品表面的復型。

　　奧林巴斯顯微鏡噴鍍分兩步進行。先在與樣品成45度的方向通過噴鉑孔噴鍍。為此，先要在的真空度下，使帶有鑰珠的碳棒預熱，再加大電流使鉑在2—3秒鐘內熔融氣化，當剛剛出現(xiàn)碳花時，即終止通電。第二步為噴碳，其噴鍍方向與樣品表面垂直。每次噴碳時間為1秒，總計可噴4—5次。每次間隔3—4秒。間歇噴碳的目的是防止樣品因過熱而發(fā)生蝕刻。噴碳是為了在樣品表面形成一個連續(xù)的膜。噴鉑與噴碳的方向。

　　以上所述的奧林巴斯顯微鏡冷凍超薄切片制備法適用于形態(tài)，細胞化學或免疫標記研究。制備過程中樣品要通過一系列的水溶性介質，可稱為濕法。濕法會使樣品中的可溶性成份流失，因此不能用于這些成份的研究。為研究紹胞中的可擴散的，水溶性成份，應當使用于法制備超薄切片。